众所周知，在芯片制造过程中，光刻胶是一项非常重要的材料。 因为芯片进行光刻工艺时，就是利用投影原因，光线将芯片 电路图 ，照射在涂了光刻胶的硅晶圆片上，然后光刻胶见光就会发生变化。 与 光刻机 对应，光刻胶也按工艺划分，有 g线、i线、KrF、ArF、EUV这么5种。 g线、i线主要用于250nm以上工艺，KrF一般用于250nm-130nm工艺，ArF一般用于130nm-14nm，而EUV用于EUV光刻工艺，主要用于7nm以下工艺。 国内 g线、i线、KrF工艺上能够生产光刻胶，但自给率不高，g线、i线在20-30%左右，而KrF在5-10%左右。ArF在2022年前国内自给率基本接近于0，至于EUV就想都没想了，目前全球仅日本能够生产EUV光刻胶。 从全球光刻胶市场来看，日本掌握最领先的光刻胶配方和工艺，东京应化、JSR、富士、信越化学、住友化学等日本厂商占据80%以上市场份额。 这样的情况，对 中国芯 的发展，当然非常不利，所以随着...
