近日,中国科学院上海光学精密机械研究所高功率 激光 元件技术与工程部和上海理工大学合作,在光学薄膜的超低吸收研制工艺研究中取得新进展,制备得到了吸收损耗仅为1.4 ppm的高反射多层膜,相关研究成果以“Effect of ionic oxygen concentration on properties of SiO 2 and Ta 2 O 5 monolayers deposited by ion beam sputtering”为题,发表于Optical Materials。 随着 激光技术 的发展,具有超低吸收损耗的激光薄膜对激光干涉引力波探测器等高精度光学系统至关重要。光学薄膜的吸收会影响元件的光学性能导致系统性能下降,此外吸收带来的热量沉积引起元件热畸变会造成光束质量的急剧恶化。薄膜沉积过程中的工艺参数会对薄膜材料的光学性能产生直接影响,但目前针对离子束溅射过程中离子氧参数对薄膜吸收损耗影响的研究还不够充分。 研究团队通过双离子束溅射沉积系统制备了SiO 2 、Ta 2 O 5 两种单层氧化物薄...