光电情报网信息监测服务平台
Chinese Academy of Sciences | optic science and technology information network system
微信公众号
产品首页
登录
注册
新首页
首页
期刊浏览
重要报告
高级检索
用户空间
您当前的位置:
首页
>
主题相关信息
主题基本信息
领先制程技术
主题关注动态
相关监测主题
全文
标题
摘要
对象
主题
机构
国家
链接
当前资源
所有资源
日期从
到
共监测到
1
条资源
发布时间
重要度
点击量
1
2024-05-06
谁是下一个晶圆代工“最强王者”?
电子产品世界
业界动态
监测对象:
英特尔
,
光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN EXE
监测主题:
紫外光刻机设备HighNAEUV
,
光刻设备
,
2D尺寸
,
领先制程技术
,
高数值孔径
摘要
摘要
|
HTML
|
网页快照
|
|
0次
而近日,英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备(High NA EUV)组装。由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV光刻设备,开始多项校准,2027年启用、生产Intel 14A制程。英特尔强调,当High-NA EUV光刻设备与自家 晶圆代工 服务的其他领先制程技术相结合时,打印尺寸比现有EUV机台缩小1.7倍,因2D尺寸缩小,密度提高2.9倍,协助英特尔推展制程蓝图。
新增专题
集成电路
3D打印
激光
无意义
添加Tag:
(tag请以"+"号连接,例如:academic +scienceinnovation)
[1 页/ 1 条记录]