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谁是下一个晶圆代工“最强王者”?
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而近日,英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备(High NA EUV)组装。由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV光刻设备,开始多项校准,2027年启用、生产Intel 14A制程。英特尔强调,当High-NA EUV光刻设备与自家
晶圆代工
服务的其他领先制程技术相结合时,打印尺寸比现有EUV机台缩小1.7倍,因2D尺寸缩小,密度提高2.9倍,协助英特尔推展制程蓝图。
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